製品紹介
1.タンタルターゲットは、スパッタリング真空ターゲット用の直径が200〜1000mmの高純度タンタルです。
2.基本情報
グレード：RO5200
タイプ：正方形のターゲット、円形のターゲット、および特殊な-形状のターゲット
タンタルスパッタリングターゲット材料：金属ターゲット、合金ターゲット、セラミック化合物ターゲット
タンタルの化学組成
| 学年 | 主な要素 | 不純物がパーセント以下 | |||||||||||
| Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | Nb | O | C | H | N | |
| Ta1 | 残る | - | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.002 | 0.05 | 0.015 | 0.01 | 0.002 | 0.005 |
| Ta2 | 残る | - | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.04 | 0.02 | 0.005 | 0.1 | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.025 |
詳細ショー
タンタルスパッタリングターゲット
タンタルラウンドターゲット
3.メタルターゲット：
ニッケルターゲット、チタンターゲット、マグネシウムターゲット、ニオブターゲット、スズターゲット、アルミニウムターゲット、インジウムターゲット、鉄ターゲット、ジルコニウムアルミニウムターゲット、チタンアルミニウムターゲット、ジルコニウムターゲット、アルミニウム-シリコンターゲット、シリコンターゲット、銅ターゲット、タンタルターゲット、ゲルマニウムターゲット、シルバーターゲット、ゴールドターゲット、ガドリニウムターゲット、ランタナムターゲット、イットリウムターゲット、セリウムターゲット、タングステンターゲット、ステンレス鋼ターゲット、ニッケル-クロムターゲット、ハフニウムターゲット、モリブデンターゲット、鉄{{2 }}ニッケルターゲット、タングステン金属スパッタリングターゲットなど。
4.タンタルターゲットは、主に集積回路、液晶ディスプレイ、レーザーストレージ、情報ストレージ、電子制御デバイスなどの電子情報産業で使用されます。 ガラスコーティングの分野でも使用できます。 また、耐摩耗性-の材料、高温、耐食性、および-エンドデコレーション製品やその他の産業にも使用できます。
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