中国での真空めっき装置の開発、特にタンタルの処理と、めっき装置の蒸発源の製造に使用される主要な原材料であるタンタルで作られた部品を制限する多くの要因があります。タンタルおよびタンタル合金融点が高く、安定性が高く、高温での蒸気圧が低いため、真空装置のサポート アクセサリ、ヒーター、および熱シールドの製造に適しています。 現在、真空蒸発器用タンタル部品の生産に従事する国内企業はほとんどなく、真空蒸発器用タンタル部品の輸入に大きく依存しており、中国での真空蒸発器用タンタル部品の生産と製造には多くの困難があります。
抵抗加熱は蒸発温度が1 000～2 000℃の材料の蒸発源としてよく用いられます。一般的に蒸発源材料の融点は蒸発温度より1000℃程度高いことが求められます。使用温度、平衡蒸気圧が低く、高温冷却後の脆性が小さく、真空環境での化学的安定性が良好です。 したがって、タンタルは真空蒸着の一般的な材料です。
タンタルは、わずかに青い色をした明るい灰色の金属で、高密度 (16.5) × 103 kg/m3)、高い融点 (2 996 C)、低い線膨張係数 (6.5 の間) 0 および 100 C) × 10-6 K-1)、延性があり、銅よりも丈夫で、細線または箔に冷間引き抜きされています。 タンタルの 300K での熱伝導率は 52.1W (m K) -1 で、弾性率は室温で 192×103 MPa です。
Ta1 のタンタル含有量は 90.35% 以上です。 Ta2 には 79.50% 以上のタンタルが含まれています。 ただし、タンタルの純度は、一般的な真空蒸着メッキで 99.95% 以上、ハイエンド OLED メッキ機で 99.99% 以上です。 明らかに、既存のブランドと標準を使用することによって、真空メッキ用のタンタルの基本的な要件を満たすことはできません。 高純度タンタルの生産は、真空めっき装置のタンタル部品の国産化を制限する重要な要因となっています。
他の金属元素 (Fe、Ni など) の融点が低い、平衡蒸気圧が高い (W など)、またはタンタル材料の安定性が低い (Ti)。 低純度のタンタル材料が高温で蒸発すると、蒸発チャンバー内で他の金属元素が分解して蒸発したり、他の分子と反応したりして、膜成分が蒸発器の材料成分から逸脱する可能性があります。 したがって、高純度タンタル部品の真空蒸着は、コーティングへの蒸発源材料の汚染を大幅に減らすことができます。
